二次イオン質量分析法

二次イオン質量分析法（SIMS）は、次級イオンを検出して表面の組成や深さ方向の分布を測定する高感度分析技術です。半導体製造の品質管理や製品の信頼性検証に不可欠なツールとして、企業の品質保証リスク管理に貢献します。